磁控溅射镀膜仪

仪器分类

磁控溅射镀膜仪

仪器生产商

美国TM公司

运行状态

故障待维修

资产编号

20101868

所属机构

太阳集团tyc539-材料科学与工程学院

资产负责人

胡鹏飞

使用模式

按时预约

购置日期

2010-12-31

放置位置

王城校区E楼ES108

仪器价格

370万

规格

JS-20

仪器产地

美国

主要配件

无

购买经办人

仪器大类

表面薄膜制备设备

仪器种类

真空镀膜设备

应用领域

材料表面工程：工模具镀层、功能薄膜、微电子、装饰等。

主要参数

镀膜室尺寸：φ700´700mm；

极限真空：8´10^-8Pa；

按时计费

1炉次/1000元。

联系人及

联系方式

胡鹏飞13526954355

hupengfei1978@126.com

仪器介绍

JS-20磁控溅射镀膜仪是一种比较先进的表面镀膜设备，配置了4个靶材，分别由4个电源单独控制；样品台可以旋转并调整相应的转速，且样品台可以进行加热，可以根据要求制备各种单质膜层、复合膜层和化合物膜层。

设备型号：JS-20磁控溅射镀膜仪，技术指标：镀膜室尺寸：φ700´700mm；极限真空：8´10^-8Pa；四台直流稳压电源：N≤5000W；一台直流偏压电源：N≤200W，-200V；气路流量：0～200sccm两路，0～10sccm1路，靶熟：4靶；基体加热温度：900℃。

主要功能：可以制备各种单金属膜层，多金属膜层，各种非金属单质及复合膜层，并可以根据需要通入相应的反应气体采用反应溅射的方式制备各种化合物膜层。

其他说明

特别注意：第一次使用者必须现场、电话或邮件联系管理老师（以回复为准！），未联系确认者的预约一律视为无效预约！预约时，请备注姓名、邮箱和联系电话，以免时间冲突时及时联系上您。